我國(guó)電子的快速發(fā)展，在電子工業(yè)中常用于清洗的是超純水，所以工業(yè)超純水設(shè)備是非常重要的。電子級(jí)超純水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997)。半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。  

　　電子行業(yè)超純水發(fā)展的歷史進(jìn)程：    
　　第一階段：預(yù)處理過(guò)濾器——>陽(yáng)床——>陰床——>混合床    
　　第二階段：預(yù)處理過(guò)濾器——>反滲透——>混合床    
　　目前階段：預(yù)處理過(guò)濾器——>反滲透——>EDI(無(wú)需酸堿)   

　　1、反滲透設(shè)備+離子交換設(shè)備：
　　原水→原水箱→原水增壓泵→石英砂過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→阻垢劑投加設(shè)備→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透主機(jī)(單級(jí)或者雙級(jí))→CQ2脫氣塔→中間水箱→中間水泵→離子交換床→終端過(guò)濾器→超純水

　　2、反滲透設(shè)備+EDI裝置：
　　原水→原水箱→原水增壓泵→石英砂過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→阻垢劑投加設(shè)備→精密過(guò)濾器→高壓泵→反滲透主機(jī)(單級(jí)或者雙級(jí))→CQ2脫氣塔→中間水箱→中間水泵→EDI超純水設(shè)備→超純水

　　電子行業(yè)超純水的3種工藝：    
　　1、采用離子交換樹(shù)脂制備電子工業(yè)超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→陽(yáng)床→陰床→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)    
　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合制備電子工業(yè)超純水的方式，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→混床(復(fù)床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)     
　　3、采用反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制備電子工業(yè)超純水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→中間水箱→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn).

    
　　電子行業(yè)超純水設(shè)備特點(diǎn)     
　　電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓力保護(hù)裝置、在線水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無(wú)人值守，同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使該設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價(jià)比和設(shè)備可靠性。