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簡要描述：反應釜高低溫循環(huán)裝置放熱吸熱反應過程，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號：SUNDI-575廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-01-12訪 問 量：1545| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航空航天 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設(shè)備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
| 型號 | SUNDI-655WV | SUNDI-675WV | SUNDI-6A10WV | SUNDI-6A15WV | SUNDI-6A25WV | |
| 介質(zhì)溫度范圍 | -60℃～+300℃ (系統(tǒng)加壓3BAR) | |||||
| 控制系統(tǒng) | 前饋PID ,無模型自建樹算法，PLC控制器 | |||||
| 溫控模式選擇 | 物料溫度控制與設(shè)備出口溫度控制模式 可自由選擇 | |||||
| 溫差控制 | 設(shè)備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設(shè)定 | |||||
| 程序編輯 | 可編制5條程序，每條程序可編制40段步驟 | |||||
| 通信協(xié)議 | MODBUS RTU 協(xié)議 RS 485接口 | |||||
| 外接入溫度反饋 | PT100或4～20mA或通信給定（默認PT100) | |||||
| 溫度反饋 | 設(shè)備導熱介質(zhì) 溫度、出口溫度、反應器物料溫度（外接溫度傳感器）三點溫度 | |||||
| 導熱介質(zhì)溫控精度 | ±0.5℃ | |||||
| 反應物料溫控精度 | ±1℃ | |||||
| 加熱功率 kW | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| 制冷量 kW AT | 300℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 |
| 100℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| 20℃ | 5.5 | 7.5 | 10 | 15 | 25 | |
| -20℃ | 4.8 | 6 | 8.2 | 12 | 25 | |
| -40℃ | 2.3 | 3.1 | 4.8 | 7.8 | 18 | |
| -55℃ | 0.75 | 0.9 | 1.5 | 2.8 | 6 | |
| 流量壓力 max L/min bar | 35 | 50 | 60 | 110 | 150 | |
| 2 | 2 | 2.5 | 2.5 | 2.5 | ||
| 循環(huán)泵 | 冠亞磁力驅(qū)動泵 | |||||
| 壓縮機 | 法國泰康活塞壓縮機 | 意大利都凌/卡萊爾/艾默生 | ||||
| 膨脹閥 | 丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥+艾默生電子膨脹閥 | |||||
| 蒸發(fā)器 | 丹佛斯/高力板式換熱器 | |||||
| 操作面板 | 7英寸彩色觸摸屏，溫度曲線顯示、記錄 | |||||
| 安全防護 | 具有自我診斷功能；冷凍機過載保護；高壓壓力開關(guān)，過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。 | |||||
| 密閉循環(huán)系統(tǒng) | 整個系統(tǒng)為全密閉系統(tǒng)，高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份，系統(tǒng)在運行中不會因為高溫使壓力上升，低溫自動補充導熱介質(zhì)。 | |||||
| 制冷劑 | R-404A/R23混合制冷劑 | |||||
| 接口尺寸 | G3/4 | G1 | G1 | G1 | DN32 PN10 | |
| 水冷型 W 溫度 20度 | 1800L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 2100L/H 1.5bar~4bar G3/4 | 3000L/H 1.5bar~4bar G1 | 4000L/H 1.5bar~4bar G1 1/8 | 8.5m³/H 1.5bar~4bar DN40 | |
| 外形尺寸 cm | 55*100*175 | 55*100*175 | 70*100*175 | 80*120*185 | 100*150*185 | |
| 重量kg | 265 | 305 | 340 | 380 | 980 | |
| 電源 380V50HZ | 10kW | 14kW | 18kW | 26kW | 40kW | |
反應釜高低溫循環(huán)裝置放熱吸熱反應過程
反應釜高低溫循環(huán)裝置放熱吸熱反應過程
在醫(yī)藥合成、精細化工操作過程中，我們經(jīng)常會遇到氧化反應、酸堿中和等強放熱反應，對于這些強放熱反應，如果操控不當或設(shè)備不給力就很容易出現(xiàn)靠譜事故或生產(chǎn)效率低的缺陷。無錫冠亞反應釜高低溫循環(huán)裝置通過控制盤管或是夾套內(nèi)的油溫來進行工藝控制，也常常被稱為反應釜夾套加熱設(shè)備。
反應釜反應階段的溫度不是一個線性過程，其中有放熱、吸熱、反應速率等各種因素的影響，單純的PID控制是控制不住的，全自動控制實現(xiàn)起來難度很大，需要建立起數(shù)學模型，采用醫(yī)藥反應釜高低溫循環(huán)裝置進行控溫。
在持續(xù)的穩(wěn)定放熱反應過程中，需要連續(xù)不間斷的向反應釜夾套內(nèi)通冷卻水實施降溫才能勉強維持冷熱平衡，此謂釜底抽薪；但是，如果放熱突然加劇就易引發(fā)沖料、溢鍋或更大的靠譜事故，這其中的主要原因是反應釜的單位體積換熱面積太小，單純的夾套降溫遠不能滿足放熱工藝對冷能的需要量。
醫(yī)藥反應釜高低溫循環(huán)裝置基于預測的模糊自整定PID集成控制技術(shù)實現(xiàn)反應釜溫度控制，其主要思想是利用系統(tǒng)模型的預測輸出，結(jié)合常規(guī)PID的控制經(jīng)驗，采用模糊推理方法，對控制器算法進行改進。醫(yī)藥反應釜高低溫循環(huán)裝置與通常的PID控制方案相比，該設(shè)備提高了系統(tǒng)的性能，較好的解決了反應釜溫度控制的難題。
