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簡要描述：制冷加熱循環(huán)一體機，應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制，尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫(yī)藥工業(yè)用準確控溫的特殊裝置，用以滿足間歇反應器溫度控制或持續(xù)不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統(tǒng)。反應釜加熱冷卻裝置控溫說明
產(chǎn)品型號：SUNDI-575廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-01-12訪 問 量：963| 品牌 | LNEYA/無錫冠亞 | 價格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油,航空航天 |
無錫冠亞冷熱一體機典型應用于：
高壓反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、
雙層反應釜冷熱源動態(tài)恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制；
小型恒溫控制系統(tǒng)、蒸飽系統(tǒng)控溫、材料低溫高溫老化測試、
組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制。
反應釜加熱冷卻裝置控溫說明
反應釜加熱冷卻裝置控溫說明
反應釜加熱冷卻裝置可以加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫，溫度控制范圍寬，全程不需更換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。如果反應釜加熱冷卻裝置發(fā)生故障的話，要查找出正確的原因，然后用相應的方法來解決處理。
反應釜加熱冷卻裝置采用配件，高性價比配置，提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
反應釜加熱冷卻裝置是對反應釜以及各種反應器進行控溫使用的設備，利用壓縮機制冷，導熱油加熱使冷槽內(nèi)介質(zhì)獲取低溫，通過加熱器加熱使容腔內(nèi)介質(zhì)獲取高溫，通過冷熱過程使槽內(nèi)介質(zhì)溫度達到用戶所需。
反應釜加熱冷卻裝置適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制，線性控制釜內(nèi)物料溫度，可以選擇程序控制模式，導熱介質(zhì)和物料的溫差也可設定，冠亞整個反應釜加熱冷卻裝置系統(tǒng)采用全密閉式循環(huán)，高溫時不會產(chǎn)生油霧，低溫時不會吸收水分，系統(tǒng)中有膨脹罐，在制冷加熱過程中導熱介質(zhì)熱脹冷縮。
